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J-GLOBAL ID:200903077123681825

水素を燃料とする機器への水素供給システム及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大谷 保
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000130518
Publication number (International publication number):2001313050
Application date: Apr. 28, 2000
Publication date: Nov. 09, 2001
Summary:
【要約】【課題】 水素を燃料とする機器への水素供給手段として、水素貯蔵器に貯蔵する水素ガスの除湿処理を確実に施し、かつ水素貯蔵器内の水素吸蔵材の被毒による性能低下を防ぐとともに、水素貯蔵能力およびサイクル寿命に優れた水素供給システムを提供すること。【解決手段】 水素を燃料とする機器に水素を供給すべく、水素含有原料から水素を生成する改質器と、改質器により生成された水素を吸蔵し、かつ放出することが可能な水素吸蔵材を内部に有する第1貯蔵部と第2貯蔵部からなる水素貯蔵器と、改質器により生成された水素に対しては水素貯蔵器に貯蔵する前に除湿処理を施し、水素貯蔵器から放出された水素に対しては燃料機器に供給する前に加湿処理を施す調湿手段とを備えた水素供給システムであって、前記除湿処理は、第1段階除湿処理および第2段階除湿処理により行われ、前記加湿処理は、第1段階加湿処理および第2段階加湿処理により行われることを特徴とする水素を燃料とする機器への水素供給システム及びその装置である。
Claim (excerpt):
水素を燃料とする機器に水素を供給すべく、水素含有原料から水素を生成する改質器と、改質器により生成された水素を吸蔵し、かつ放出することが可能な水素吸蔵材を内部に有する第1貯蔵部と第2貯蔵部からなる水素貯蔵器と、改質器により生成された水素に対しては水素貯蔵器に貯蔵する前に除湿処理を施し、水素貯蔵器から放出された水素に対しては燃料機器に供給する前に加湿処理を施す調湿手段とを備えた水素供給システムであって、前記除湿処理は、第1段階除湿処理および第2段階除湿処理により行われ、前記加湿処理は、第1段階加湿処理および第2段階加湿処理により行われることを特徴とする水素を燃料とする機器への水素供給システム。
IPC (4):
H01M 8/04 ,  B01D 53/26 101 ,  C01B 3/00 ,  H01M 8/06
FI (5):
H01M 8/04 J ,  H01M 8/04 K ,  B01D 53/26 101 D ,  C01B 3/00 A ,  H01M 8/06 G
F-Term (13):
4D052AA02 ,  4D052CD00 ,  4D052DA02 ,  4D052DB01 ,  4D052HA01 ,  4D052HA03 ,  4G040AA12 ,  4G040AA13 ,  4G040EA03 ,  4G040EA06 ,  4G040EB31 ,  5H027AA02 ,  5H027BA14

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