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J-GLOBAL ID：200903077148619245

旋回式微細気泡発生方法及び旋回式微細気泡発生装置

Inventor：
大成 博文

About 大成 博文


Applicant, Patent owner：
大成 博文

About 大成 博文


Agent (1)： 村田 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002263440
Publication number (International publication number)：2003181259
Application date： Dec. 30, 1998
Publication date： Jul. 02, 2003
Summary：
【要約】【課題】 微細気泡を簡潔な構造で効率よく生成することができる微細気泡発生方法及び装置の提供。【解決手段】円錐形のスペースを有する容器本体と、同スペースの内壁円周面の一部にその接線方向に開設された加圧液体導入口と、前記円錐形のスペース底部に開設された気体導入孔と、前記円錐形スペースの頂部に開設された旋回気液導出口とから微細気泡発生装置を構成し、前記円錐形スペース内で伸長、先細りさせながら旋回導出する気体渦管の形成を第1過程とし、その気体渦管の前後の間で旋回速度差を発生させ、強制的に気体渦管を切断させることによる微細気泡の発生を第2過程とする。
Claim (excerpt)：
円錐形のスペースを有する容器本体と、同スペースの内壁円周面の一部にその接線方向に開設された加圧液体導入口と、前記円錐形のスペース底部に開設された気体導入孔と、前記円錐形スペースの頂部に開設された旋回気液導出口とから微細気泡発生装置を構成し、前記円錐形スペース内で伸長、先細りさせながら旋回導出する気体渦管の形成を第1過程とし、その気体渦管の前後の間で旋回速度差を発生させ、強制的に気体渦管を切断させることによる微細気泡の発生を第2過程とすることを特徴とする旋回式微細気泡発生方法。
IPC (5)：
B01F 5/00 ,  A01K 63/04 ,  A47K 3/00 ,  B01F 3/04 ,  C02F 3/20
FI (6)：
B01F 5/00 G ,  A01K 63/04 C ,  A01K 63/04 F ,  A47K 3/00 F ,  B01F 3/04 C ,  C02F 3/20 Z
F-Term (12)：
2B104CA01 ,  2B104CA03 ,  2B104EB01 ,  2B104EB04 ,  2B104EB20 ,  2B104EF09 ,  4D029AA01 ,  4D029AB03 ,  4D029BB11 ,  4D029BB13 ,  4G035AB20 ,  4G035AC15
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 旋回式微細気泡発生装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-263430   Applicant：大成博文
  • 特開昭48-004702
  • 特開平4-126542
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