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J-GLOBAL ID：200903077155674294

酸化亜鉛膜の形成方法及び該酸化亜鉛膜を用いた光起電力素子

Inventor： 園田 雄一
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 荻上 豊規
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998377715
Publication number (International publication number)：2000199098
Application date： Dec. 28, 1998
Publication date： Jul. 18, 2000
Summary：

【要約】【目的】 電解析出法により基板密着性に優れた高品質の酸化亜鉛膜を効率的に形成する方法を提供する。【構成】 導電性基体を、少なくともアンモニウムイオンと亜鉛イオンを含有してなる水溶液に浸漬し、該水溶液中に浸漬された対向電極との間に通電し、酸化亜鉛膜を前記導電性基体上に堆積する酸化亜鉛膜形成方法であって、前記アンモニウムイオンの濃度を前記亜鉛イオンの濃度の2倍〜6倍の範囲に制御することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

導電性基体を少なくともアンモニウムイオンと亜鉛イオンを含有してなる水溶液に浸漬し、該水溶液中に浸漬された対向電極との間に通電し、酸化亜鉛膜を前記導電性基体上に堆積する酸化亜鉛膜の形成方法であって、前記アンモニウムイオンの濃度を前記亜鉛イオンの濃度の2倍〜6倍の範囲に制御することを特徴とする酸化亜鉛膜の形成方法。

IPC (5)：

C25D 9/04 ,  C01G 9/02 ,  C25D 7/12 ,  H01L 31/04 ,  H01M 14/00

FI (5)：

C25D 9/04 ,  C01G 9/02 B ,  C25D 7/12 ,  H01M 14/00 P ,  H01L 31/04 M

F-Term (40)：

4G047AA02 ,  4G047AB02 ,  4G047AC03 ,  4G047AD02 ,  4K024AA00 ,  4K024AA05 ,  4K024AA09 ,  4K024AA17 ,  4K024AB02 ,  4K024AB03 ,  4K024AB15 ,  4K024BA04 ,  4K024BB12 ,  4K024BB27 ,  4K024BC01 ,  4K024CA01 ,  4K024CB03 ,  4K024DA04 ,  4K024DA07 ,  4K024DB03 ,  4K024DB10 ,  4K024GA16 ,  5F051AA03 ,  5F051AA04 ,  5F051AA05 ,  5F051BA14 ,  5F051BA17 ,  5F051CB27 ,  5F051DA04 ,  5F051FA02 ,  5F051FA15 ,  5F051FA23 ,  5F051GA02 ,  5H032AA06 ,  5H032AS16 ,  5H032BB05 ,  5H032BB07 ,  5H032EE02 ,  5H032EE18 ,  5H032HH02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 酸化亜鉛膜作製用電解液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-023775   Applicant：大阪市, 奥野製薬工業株式会社