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J-GLOBAL ID：200903077172702927

マスクの位置合わせ方法およびそれを用いた露光装置

Inventor： 戸口 学
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 志賀 正武 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999271442
Publication number (International publication number)：2001093822
Application date： Sep. 24, 1999
Publication date： Apr. 06, 2001
Summary：

【要約】【課題】 複数のレチクルを順次露光するに際して、レチクルの位置ズレ量の計測時間を短縮し、生産効率を向上させることのできるマスクの位置合わせ方法およびそれを用いた露光装置を提供することを課題とする。【解決手段】 露光装置では、1枚目のレチクルRを位置決めして、この1枚目のレチクルRの位置を計測した後、2枚目以降のレチクルRにおいては、1枚目のレチクルRに対する相対的な位置ずれ量を計測し、これに基づいて前記1枚目のレチクルRの位置に2枚目以降のレチクルRを位置合わせする構成となっている。また、2枚目以降のレチクルRの計測に、例えば複数組のCCD等の画像処理装置18a,18bを用いる構成とした。

Claim (excerpt)：

第1および第2マスクを順次所定の位置に保持し、前記第1マスクに設けられた基準マークをアライメント系で計測し、該第1マスクを所定の位置に合わせた後、該第2マスクに形成されたパターンを露光光で照明して、投影光学系を介して基板上に露光転写し、続いて、前記第2マスクに設けられた基準マークを前記アライメント系で計測し、該第2マスクを所定の位置に合わせて、前記第2マスクに形成されたパターンを露光光で照明し、前記投影光学系を介して前記基板上に露光転写するに際して、前記第1マスクに形成された前記パターンの位置を複数箇所計測して、前記基板に対して所定の位置関係になるように前記第1マスクを位置決めし、前記アライメント系に対する前記位置決めされた第1マスクの前記基準マークの位置を計測して、前記アライメント系に対する前記第1マスクの位置を求め、前記第2マスクを位置合わせする際には、前記アライメント系と前記第2マスクに設けられた前記基準マークとの相対位置に基づいて、前記求めた第1マスクの位置に該第2マスクを位置決めすることを特徴とするマスクの位置合わせ方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (4)：

G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 D ,  H01L 21/30 514 A

F-Term (15)：

5F046AA11 ,  5F046BA03 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC16 ,  5F046DA13 ,  5F046EB02 ,  5F046EB03 ,  5F046ED03 ,  5F046FA10 ,  5F046FA16 ,  5F046FA17 ,  5F046FC04 ,  5F046FC05