Pat
J-GLOBAL ID:200903077180866890
位置検出方法及び装置、並びに前記装置を備えた露光装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大森 聡
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998178736
Publication number (International publication number):2000012445
Application date: Jun. 25, 1998
Publication date: Jan. 14, 2000
Summary:
【要約】【課題】 位置検出用の光束よりも広い波長域の光束を使用することなく、被検マークのデフォーカス量を検出する。【解決手段】 所定の偏光特性のフォーカス計測用の光束FLでフォーカス計測用スリット50を照明し、このフォーカス計測用スリット50の像をウエハマーク7上又はこの近傍に投影する。ウエハWから反射される光束FLを偏光ビームスプリッタ18で瞳分割部材44側に導き、瞳分割部材44で分割された光束53,54によって形成されるフォーカス計測用スリット50の像の横ずれ量からウエハマーク7のデフォーカス量を検出し、そのデフォーカス量を補正する。光束FLと同じ波長域で偏光特性の異なる光束ALでウエハマーク7を照明し、ウエハマーク7からの光束ALを偏光ビームスプリッタ18を介して撮像素子20側に導いて、ウエハマーク7の位置検出を行う。
Claim (excerpt):
所定の基板に形成された被検マークの位置を検出するための位置検出方法において、前記被検マークに第1の照明光を照射し、前記基板上の前記被検マーク上又はこの近傍に前記第1の照明光と光学特性の異なる第2の照明光を照射し、前記基板からの前記第1の照明光に対応する光学特性を有する光束を所定の対物光学系を介して検出すると共に、前記基板からの前記第2の照明光に対応する光学特性を有する光束を前記対物光学系を介して検出し、前記第2の照明光に対応する光学特性を有する光束に基づいて前記基板の前記被検マークが形成されている領域の前記対物光学系に対する合焦状態を求め、前記第1の照明光に対応する光学特性を有する光束に基づいて前記被検マークの位置を求めることを特徴とする位置検出方法。
IPC (4):
H01L 21/027
, G03F 7/22
, G03F 9/00
, G03F 9/02
FI (5):
H01L 21/30 525 E
, G03F 7/22 H
, G03F 9/00 A
, G03F 9/02 H
, H01L 21/30 525 W
F-Term (19):
2H097BA01
, 2H097KA03
, 2H097KA13
, 2H097KA15
, 2H097KA20
, 2H097KA28
, 2H097KA38
, 2H097LA10
, 2H097LA12
, 5F046CC05
, 5F046DA14
, 5F046EA11
, 5F046EB01
, 5F046EB02
, 5F046ED02
, 5F046FA01
, 5F046FB08
, 5F046FB20
, 5F046FC04
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