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J-GLOBAL ID:200903077202120421

X線ターゲット

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 長瀬 成城
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000028647
Publication number (International publication number):2001216927
Application date: Feb. 07, 2000
Publication date: Aug. 10, 2001
Summary:
【要約】【課題】ターゲットに微小球や微小ロッドを用い、さらに、そのターゲットをベリリューム等の板に埋め込んで熱伝導を良くしたことにより、微小ターゲットの支持を可能にしたX線ターゲットを提供する。【解決手段】ターゲットとターゲット支持部材からなるX線ターゲットにおいて、前記ターゲットは、X線の輝度を上げるために、ターゲットの断面積をなるべく小さく、かつ原子番号の大きな物質で構成したことを特徴とするX線ターゲット。
Claim (excerpt):
ターゲットとターゲット支持部材からなるX線ターゲットにおいて、前記ターゲットは、X線の輝度を上げるために、ターゲットの断面積をなるべく小さく、かつ原子番号の大きな物質で構成したことを特徴とするX線ターゲット。
FI (3):
H01J 35/08 C ,  H01J 35/08 B ,  H01J 35/08 E
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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