ポリエチレン製微多孔膜および製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996226442
Publication number (International publication number)：1998067870
Application date： Aug. 28, 1996
Publication date： Mar. 10, 1998
Summary：

【要約】【課題】低いヒューズ温度と耐熱性を両立し、さらに高強度が付与された、電池用セパレーターとして用いた場合の電池安全性の点において優れたポリエチレン製微多孔膜とその製造方法を提供する。【解決手段】電離性放射線による架橋処理を施す工程を含むポリエチレン製微多孔膜の製造方法において、ラジカル種を減衰させる工程を導入することにより、気孔率20〜80%、透過法による平均孔径0.1μm以下、ゲル分率1%以上、ラジカル濃度1018スピン/g以下、収縮残存率15%以上のポリエチレン製微多孔膜を製造する。

Claim (excerpt)：

気孔率20〜80%、透過法による平均孔径0.1μm以下、ゲル分率1%以上、ラジカル濃度1018スピン/g以下、収縮残存率15%以上であることを特徴とするポリエチレン製微多孔膜。

IPC (4)：

C08J 7/00 305 , C08J 9/36 CES , H01M 2/16 , C08L 23:04

FI (3)：

C08J 7/00 305 , C08J 9/36 CES , H01M 2/16 P

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平3-274661
特開平1-071734
特開平4-126706

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