Pat
J-GLOBAL ID:200903077256304447

導電性高屈折率膜及び帯電防止低反射膜及びこれらの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 泉名 謙治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991296215
Publication number (International publication number):1993107403
Application date: Oct. 16, 1991
Publication date: Apr. 30, 1993
Summary:
【要約】【構成】導電性微粒子(SnO2 :Sb,TiOx ,TiO2 :Nb,ITO等)と、TiCl4 を含む液を基体上に塗布した後、加熱かつ/又は紫外線照射により導電性高屈折率膜を形成する。次いで、この膜上に、MgF2 やSiO2 等の低屈折率膜を形成して、帯電防止低反射膜を製造する。【効果】高温に加熱することなく、強固で導電性の高い高屈折率膜を形成できる。
Claim (excerpt):
導電性微粒子と、Ti塩を含有する液を基体上に塗布した後、加熱かつ/又は紫外線照射により導電性高屈折率膜を製造することを特徴とする導電性高屈折率膜の製造方法。
IPC (2):
G02B 1/10 ,  H01J 29/88

Return to Previous Page