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J-GLOBAL ID：200903077285712490
アミノ酸薄膜の形成方法及び薄膜を用いた化学センサプローブ
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
中本 宏 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993144425
Publication number (International publication number)：1994330300
Application date： May. 25, 1993
Publication date： Nov. 29, 1994
Summary：
【要約】【目的】 親水性の表面物性を有する付着性の高いアミノ酸薄膜の形成方法、アミノ酸薄膜を有する高感度で幅広い対象範囲を有する化学センサプローブを提供する。【構成】 スパッタターゲットを高周波放電中でスパッタリングすることにより薄膜形成を行う高周波スパッタ法において、アミノ酸溶液を板状基板上に塗布し溶媒を蒸発させたものをスパッタターゲットとするアミノ酸薄膜の形成方法。水晶振動子上にアミノ酸薄膜が形成されている化学センサプローブ。
Claim (excerpt)：
スパッタターゲットを高周波放電中でスパッタリングすることにより薄膜形成を行う高周波スパッタ法において、アミノ酸溶液を板状基板上に塗布し溶媒を蒸発させたものをスパッタターゲットとすることを特徴とする薄膜の形成方法。
IPC (3)：
C23C 14/34
, C23C 14/40
, G01N 5/02
