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J-GLOBAL ID：200903077372776623

高分子光導波路の製造方法

Inventor： デビッド ハート
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 梅田 勝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994300807
Publication number (International publication number)：1996160239
Application date： Dec. 05, 1994
Publication date： Jun. 21, 1996
Summary：

【要約】【目的】 基板間の間隙を無くして、各コア間における光の漏洩がない、光導波特性に優れた高分子光導波路の製造方法を提供する。【構成】 キャピラリとなる溝のパターンが形成されたパターン基板のパターン面を平面基板に密着させてその溝によりキャピラリを形成した後、光導波路のコアの原料であるモノマ溶液6を毛細管現象によりキャピラリに充填させてから、モノマ溶液を高分子化させることを特徴とする高分子光導波路の製造方法。

Claim (excerpt)：

キャピラリとなる溝のパターンが形成されたパターン基板のパターン面を平面基板に密着させて前記溝によりキャピラリを形成した後、光導波路のコアの原料であるモノマ溶液を毛細管現象により前記キャピラリに充填させてから、前記モノマ溶液を高分子化させることを特徴とする高分子光導波路の製造方法。

IPC (2)：

G02B 6/13 ,  C08F 2/02 MAS

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平1-244434
  
• 特開平3-132705
  
• 特開平2-173710