光学的微細プローベ及び材料のスペクトル分析方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：社本一夫 (外4名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997507903
Publication number (International publication number)：1999510254
Application date： Aug. 01, 1996
Publication date： Sep. 07, 1999
Summary：

【要約】光学探針が標本内の局部体積要素を選択的且つ優先的に表す試験体からの光を収集し、照度及び収集効力の双方が局部体積要素から落下離間して該要素の外側からの積分寄与を制限する。例えば、光学素子が高ピーク照明及び高収集効力を提供し、該高ピーク照明及び高収集効力の双方が試験体の構造または処理に相当する制限されたサイズを有する体積要素内で重畳する。1つまたは1つ以上のスペクトルセグメントから成る収集された信号は小さな体積要素内の材料の吸光、散乱または蛍光特性等の光学特性と著しく相関する。処理装置は事前に引き出されたベクトルまたはマトリックスを収集された反応に応用して出力を生成することが可能である。収集されたスペクトルまたはその他の反応はこう信号強度を有するとともに、標本中の小さな、あるいは別の方法で近接不可能にされたまたはマスクをされた光学効果を表し、それらが関心の条件に容易に相関されるようにされている。

Claim (excerpt)：

少なくとも一部が透過性であり且つ露出面を有した材料標本を光学的に評価する分析装置において、前記露出面に照明を指向して光で前記標本を照明する第1の手段であって、該第1の手段が第1の視野絞りを含み、該第1の視野絞りが該第1の視野絞りにおける前記第1の手段の回折限定解像度より大きなサイズにされている前記露出面に照明を指向して光で前記標本を照明する第1の手段と、光を集光する第2の手段であって、該第2の手段が第2の視野絞りを含み、該第2の視野絞りが該第2の視野絞りにおける前記第2の手段の回折限定解像度より大きなサイズにされている光を集光する第2の手段と、該第2の手段により集光された照明を検出し且つ検出した照明から記録を作成する手段とを備え、前記第1の手段及び前記第2の手段が、前記第1の視野絞り及び前記第2の視野絞りが前記標本の共通領域を介して少なくとも部分的に接合し、且つ、前記記録が前記照明に反応する前記共通領域を含んだ体積要素の外側から放射する光を実質的に排除する一方で、前記体積要素から放射する光を選択的に表す光学反応に一致するような構成に配置されていることを特徴とする分析装置。

IPC (5)：

G01N 21/27 , A61B 1/00 300 , A61B 5/00 101 , A61B 5/14 310 , G01N 21/64

FI (6)：

G01N 21/27 A , A61B 1/00 300 D , A61B 5/00 101 A , A61B 5/14 310 , G01N 21/27 E , G01N 21/64 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平1-245215
塗装面性状測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-052914 Applicant：日産自動車株式会社
特開平2-017429

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