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J-GLOBAL ID：200903077389681804

露光装置、露光条件決定方法および収差測定方法

Inventor： 片岡 義治
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 伊東 哲也 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995164569
Publication number (International publication number)：1996335548
Application date： Jun. 08, 1995
Publication date： Dec. 17, 1996
Summary：

【要約】【目的】 露光装置において、高価な装置を用いずに高精度および高速にフォトレジストの種類に対応した最適露光条件や投影光学系の収差を測定できるようにする。【構成】 感光基板W上に所定のパターンを異なる露光条件で複数回露光転写してパターンの複数の感光像を形成する第1工程と、複数の感光像を撮像して電気信号に変換する第2工程105と、この信号に基づいて感光像の形状に関する情報を得る第3工程108と、この得られた情報に基づいて最適な露光条件を決定する第4工程109とを具備する。

Claim (excerpt)：

感光基板上に所定のパターンを異なる露光条件で複数回露光転写して前記パターンの複数の感光像を形成する第1工程と、前記複数の感光像を撮像して電気信号に変換する第2工程と、この信号に基づいて前記感光像の形状に関する情報を得る第3工程と、この得られた情報に基づいて最適な露光条件を決定する第4工程とを具備することを特徴とする露光条件の決定方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 516 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 D