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J-GLOBAL ID：200903077401750582

欠陥解析装置,検査システム、及び、検査方法

Inventor： 藤田 浩美 ,  神本 修司 ,  磯貝 静志 ,  小野 眞 ,  佐伯 圭一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999337227
Publication number (International publication number)：2001156141
Application date： Nov. 29, 1999
Publication date： Jun. 08, 2001
Summary：

【要約】【課題】欠陥の解析を容易にし、欠陥の原因究明が困難になるのを防止する。【解決手段】ひとつの欠陥に複数の検査データに対する複数の分類情報を登録可能とし、解析対象である欠陥の分類情報を任意に選択可能とした。また、ひとつの欠陥について複数の検査装置による検査データを登録可能とし、解析対象である欠陥の分類情報を任意に選択可能とした。

Claim (excerpt)：

ワークの製造工程における欠陥を検出する検査装置と、前記欠陥をその種類に対応付けて分類する欠陥分類装置と、少なくとも前記検査装置で検出された欠陥の位置情報と前記欠陥分類装置で分類された前記欠陥の分類情報とを記憶する記憶装置と、該記憶装置に記憶された少なくとも前記欠陥の位置情報と分類情報とを関連付けて表示する欠陥解析装置とを備えた検査システムにおいて、前記欠陥の分類情報は複数であり、前記欠陥解析装置は該複数の分類情報から選択された任意の分類情報を表示するモニタを備えたことを特徴とする検査システム。

FI (2)：

H01L 21/66 Z ,  H01L 21/66 A

F-Term (8)：

4M106AA01 ,  4M106CA38 ,  4M106DA14 ,  4M106DH01 ,  4M106DJ17 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ24 ,  4M106DJ26