Pat

J-GLOBAL ID：200903077401957942

フォトマスクの異物検査装置

Inventor： 濱 満男
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995003726
Publication number (International publication number)：1996193956
Application date： Jan. 13, 1995
Publication date： Jul. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】 作業者の手に頼ることなく、フォトマスク上の異物を好適に除去することができるフォトマスクの異物検査装置を提供する。【構成】 所定の搬送経路にしたがってフォトマスク1を搬送するマスク搬送機構4〜9と、マスク搬送機構4〜9によって規定の検査位置に搬送されたフォトマスク1上の異物の有無を検査する異物検査部2と、異物検査部2の検査結果において異物有りと判定されたフォトマスク1を収容し且つフォトマスク1上の異物をエアー吹出部10からのエアーの吹き出しにより除去する異物除去部3とを備えている。

Claim (excerpt)：

所定の搬送経路にしたがってフォトマスクを搬送するマスク搬送機構と、前記マスク搬送機構によって規定の検査位置に搬送されたフォトマスク上の異物の有無を検査する異物検査部と、前記異物検査部の検査結果において異物有りと判定されたフォトマスクを収容するとともに、前記フォトマスク上の異物をエアーの吹き出しにより除去する異物除去部とを備えたことを特徴とするフォトマスクの異物検査装置。

IPC (3)：

G01N 21/88 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027