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J-GLOBAL ID：200903077411418268
三次元光導波路およびその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
谷 義一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994284894
Publication number (International publication number)：1996146240
Application date： Nov. 18, 1994
Publication date： Jun. 07, 1996
Summary：
【要約】【構成】 二次元光導波路の表面に一定の間隔を持って掘られた2本の溝の対に挟まれた構造を有する三次元光導波路を製造するに際し、溝の加工をレーザビームにより行う。【効果】 簡易に任意のパターンの三次元光導波路を製造可能であるので、少量低コストに光導波路製造を実現することができる。
Claim (excerpt)：
二次元光導波路の表面に一定の間隔を持って掘られた2本の溝の対に挟まれた構造を有することを特徴とする三次元光導波路。
IPC (2)：
FI (2)：
G02B 6/12 A
, G02B 6/12 M
