Pat

J-GLOBAL ID：200903077419429595

放射性同位体生成装置

Inventor： 藤本 正俊 ,  青島 紳一郎 ,  細田 誠 ,  土屋 裕
Applicant, Patent owner： 浜松ホトニクス株式会社
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999234169
Publication number (International publication number)：2001056394
Application date： Aug. 20, 1999
Publication date： Feb. 27, 2001
Summary：

【要約】【課題】 利用設備にオンサイトで設置することのできるコンパクトで低コストな放射性同位体生成装置を提供することを目的とする。【課題を解決するための手段】 内部が真空に保持されている核反応部30と、この核反応部に放射性同位体の生成に必要な核種からなる原料物質Rを供給する原料供給部20と、核反応部30に供給されることにより分散状態にされた原料物質Rにパルスレーザ光を出力することにより、この原料物質Rに原子核反応を起こさせて放射性同位体を生成させる光学系10と、核反応部において生成する放射性同位体の原子核を有する分子PIを回収する生成核回収部40と、核反応部30において発生する放射線の外部漏洩を防止する放射線遮蔽系50とを備えている。これにより、核反応の反応場の位置を核反応部内の特定の微小領域に固定でき、核反応部に必要なスペースを大幅に縮小することができる。

Claim (excerpt)：

内部が真空に保持されている核反応部と、前記核反応部に放射性同位体の生成に必要な核種からなる原料物質を供給する原料供給部と、前記核反応部に供給されることにより分散状態にされた前記原料物質に、パルスレーザ光を照射することにより前記原料物質に原子核反応を起こさせて放射性同位体を生成させる光学系と、前記核反応部において生成する放射性同位体の原子核を有する分子を回収する生成核回収部と、前記核反応部において発生する放射線の外部漏洩を防止する放射線遮蔽系と、を備えることを特徴とする放射性同位体生成装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭60-142299
  
• 特開昭63-155000
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• レーザーハンドブック, 19821215, 795-801