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J-GLOBAL ID：200903077430557597
表面処理装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
藤島 洋一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000296979
Publication number (International publication number)：2002105637
Application date： Sep. 28, 2000
Publication date： Apr. 10, 2002
Summary：
【要約】【課題】 量産性、操作性およびメンテナンス性を向上させることが可能な表面処理装置を提供する。【解決手段】 ワーク5に注入するイオンを含むプラズマを発生させるための構成部品として、主に、支持電極3、ケース6および対向電極9などの構造的に簡素な構成部品のみを用いて表面処理装置を構成する。構造が複雑で高価なイオン銃等を搭載した場合よりも装置構成が簡略化されると共に製造コストが安くなる。
Claim (excerpt)：
真空槽を備え、イオンを注入することにより被処理体の表面を処理するための表面処理装置であって、前記真空槽の内部に、被処理体を支持する支持電極と、前記支持電極から所定の距離の隙間を隔てて配設され、前記支持電極と共にほぼ閉鎖された処理空間を形成する処理空間形成部材と、前記処理空間に導入されたイオン発生ガスの圧力に応じて前記支持電極と前記処理空間形成部材との前記隙間を調整する隙間調整手段と、前記支持電極と対向する対向電極とを備えたことを特徴とする表面処理装置。
F-Term (2)：
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