化学増幅型ポジ型レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001234648
Publication number (International publication number)：2003043689
Application date： Aug. 02, 2001
Publication date： Feb. 13, 2003
Summary：

【要約】【課題】ArFやKrFなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、解像度、感度の性能バランスに優れた特性を有する組成物を提供する。【解決手段】下式(I)で表されるモノマーから導かれる重合単位を有し、それ自体はアルカリに不溶又は難溶であるが酸の作用でアルカリ可溶となる樹脂、及び酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(式中、nは、0〜4の整数を表し、R1、R2は、それぞれ独立に水素又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。R3、R4は、それぞれ独立にフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表し、R3又はR4は、少なくとも1つのフッ素原子で置換されている炭素数1〜6のアルキル基である。)

Claim (excerpt)：

下式(I)で表されるモノマーから導かれる重合単位を有し、それ自体はアルカリに不溶又は難溶であるが酸の作用でアルカリ可溶となる樹脂、及び酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(式中、nは、0〜4の整数を表し、R1、R2は、それぞれ独立に水素又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。R3、R4は、それぞれ独立にフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表し、R3又はR4は、少なくとも1つのフッ素原子で置換されている炭素数1〜6のアルキル基である。)

IPC (4)：

G03F 7/039 601 , C08F 32/04 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 , C08F 32/04 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

F-Term (22)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CC20 , 4J100AL08Q , 4J100AR11P , 4J100BA03P , 4J100BB07P , 4J100BC09Q , 4J100CA04 , 4J100CA13 , 4J100DA39 , 4J100EA01 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-182430 Applicant：信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社
含フルオロポリマー及びこれを含む化学増幅型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-326660 Applicant：三星電子株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-027408 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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