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J-GLOBAL ID：200903077489628870
レーザアブレーション法を用いた成膜方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
深見 久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993191232
Publication number (International publication number)：1995045141
Application date： Aug. 02, 1993
Publication date： Feb. 14, 1995
Summary：
【要約】【目的】 面内配向している膜を成膜することができる、レーザアブレーション法を用いた成膜方法を提供する。【構成】 ターゲットにレーザを照射することによりターゲット表面から飛散する物質を基板上に堆積させることにより成膜を行なうレーザアブレーション法を用いた成膜方法であって、成膜前、成膜中または成膜後に、膜面または基板に対して5 ゚以上85 ゚以下の方向からエキシマレーザを照射することを特徴とする。
Claim (excerpt)：
ターゲットにレーザを照射することによりターゲット表面から飛散する物質を基板上に堆積させることにより成膜を行なうレーザアブレーション法を用いた成膜方法であって、成膜中または成膜後に、膜面に対して5 ゚以上85 ゚以下の方向からエキシマレーザを照射することを特徴とする、レーザアブレーション法を用いた成膜方法。
IPC (6)：
H01B 13/00 565
, C01G 1/00
, C23C 14/34
, C30B 23/08 ZAA
, C30B 29/22 501
, H01B 12/06 ZAA
Cited by examiner (6)
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