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J-GLOBAL ID：200903077508126474

ガス供給装置

Inventor： 見方 裕一 ,  須藤 良久 ,  五島 憲一 ,  板藤 寛 ,  小島 章裕
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝 ,  シーケーディ株式会社
Agent (1)： 富澤 孝 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993045929
Publication number (International publication number)：1994241400
Application date： Feb. 10, 1993
Publication date： Aug. 30, 1994
Summary：

【要約】【目的】 流量制御弁の取り外しを容易にすると共に、流量制御弁内に残留するガスを効率よく置換するガス供給装置を提供すること。【構成】 ガス供給装置は、腐食性ガスFaの流れを遮断する入力弁2及び出力弁3と、それらの中間にあって腐食性ガスFaの流量を制御する流量制御弁5と、流量制御弁5に置換ガスNを供給するパージ弁6と、流量制御弁5内の腐食性ガスFaを減圧するエゼクタ4に接続するエゼクタ弁7とがユニット化され、流量制御弁5がユニットに対して上方向からネジ締結され、エゼクタ4が流量制御弁5の近傍に位置し、エゼクタ4の作動流体が置換ガスである。

Claim (excerpt)：

供給ガスの搬送管路上にあって該供給ガスの流れを遮断する第一開閉弁及び第二開閉弁と、該第一及び第二開閉弁の中間にあって該供給ガスの流量を制御する流量制御弁とが一体的にユニットとして構成されるものであって、該流量制御弁に置換ガスを供給する置換ガス供給手段と、同じく該流量制御弁内の供給ガスを減圧する排気手段とを有し、第一及び第二開閉弁を遮断した後、該流量制御弁内に残留する供給ガスを置換ガスに置換する残留ガス置換装置を備えたガス供給装置において、前記流量制御弁が前記ユニットに対して上方向からネジ締結され、前記排気手段がエゼクタであって前記流量制御弁の近傍に位置し、前記エゼクタの作動流体が前記置換ガスであることを特徴とするガス供給装置。

IPC (2)：

F17D 1/02 ,  H01L 21/302