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J-GLOBAL ID：200903077535022320

磁気ブラシ帯電装置

Inventor： 重田 邦男 ,  羽根田 哲 ,  細越澤 幸恵 ,  福地 真和 ,  森田 静雄 ,  野守 弘之
Applicant, Patent owner： コニカ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993043863
Publication number (International publication number)：1994258918
Application date： Mar. 04, 1993
Publication date： Sep. 16, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 像形成体に十分な帯電を安定して均一に与えることができて、磁性粒子が像形成体面に付着することもない磁気ブラシ帯電装置の提供。【構成】 磁性粒子を貯留する容器と、該容器内に該容器の開口部から周面の一部を露出させて設けられ、内部に複数の磁極を周方向に配設した磁石体を有して、該磁石体との相対回転により磁性粒子を周面に付着させて搬送する磁気ブラシ円筒と、該円筒に直流成分と交流成分とを有するバイアス電圧を印加するバイアス電源とを備えて、前記円筒の搬送する磁性粒子を接触させて被帯電体面を帯電させる磁気ブラシ帯電装置で、前記磁性粒子に何れも飽和磁化が20〜100emu/gの範囲、平均粒径が30〜100μmの範囲にあって、抵抗率が108〜1011Ωcmの範囲にある粒子の10〜80重量%と抵抗率が108Ωcmより小さい粒子との混合粒子を用いた構成。

Claim (excerpt)：

磁性粒子を貯留する容器と、該容器内に該容器の開口部から周面の一部を露出させて設けられ、内部に複数の磁極を周方向に配設した磁石体を有して、該磁石体との相対回転により磁性粒子を周面に付着させて搬送する磁気ブラシ円筒と、該円筒に直流成分と交流成分とを有するバイアス電圧を印加するバイアス電源とを備えて、前記円筒の搬送する磁性粒子を接触させて被帯電体面を帯電させる磁気ブラシ帯電装置において、前記容器の貯留する磁性粒子を何れも飽和磁化が20〜100emu/gの範囲、平均粒径が30〜100μmの範囲にあって、抵抗率が108〜1011Ωcmの範囲にある粒子の10〜80重量%と抵抗率が108Ωcmより小さい粒子との混合としたことを特徴とする磁気ブラシ帯電装置。

IPC (2)：

G03G 15/02 101 ,  G03G 15/02 102