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J-GLOBAL ID：200903077565867456

水素と酸素製造用触媒及び水の熱分解による水素と酸素製造方法

Inventor： 佐々木 學 ,  吉田 範行
Applicant, Patent owner： 株式会社 イオン管財
Agent (1)： 小山 有
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997029727
Publication number (International publication number)：1998212101
Application date： Jan. 28, 1997
Publication date： Aug. 11, 1998
Summary：

【要約】【目的】純水を水素と酸素に熱分解する触媒を製造し、本触媒により、純水を熱分解して得られる水素と酸素の製造方法を確立する。【構成】本発明のシリカ酸化物の触媒を回転可能な炉容器に投入して、炉容器内を真空状態に真空引きし、その真空引き前後に、純水を注入すると共に、最終目標温度約350°C〜700°Cに設定して、段階的に加熱しながら温度上昇させる如く、炉容器内温度が350°C以下にならないよう加熱保持しながら、随時純水を注入しながら、真空引きによって、純水からの水素と酸素への熱分解による水素や酸素の回収を繰り返す。

Claim (excerpt)：

天然ゼオライト、珪石等の二酸化珪素を主成分とする粉砕された鉱物、及びルチル鉱石等の二酸化チタンを主成分とする粉砕された鉱物(以下、両者の粉砕された鉱物を「鉱物」という)を温度制御可能な熱源を有する回転若しくは振動或いは撹拌可能な炉容器にあらかじめ投入して、前記炉容器(以下、「炉容器」という)を回転若しくは振動或いは炉容器内を撹拌させながら、炉容器内を真空状態に真空引きし、その真空引き前後に、前記鉱物と同等程度以上の重量の純水を注入すると共に、前記炉容器内の出発温度を100°C〜200°C及び前記炉容器内の最終目標温度約350°C〜700°Cに設定して、炉容器内温度を前記出発温度から約10分間以上の時間間隔で少なくとも約100°C以下の温度差で温度上昇させる如く、炉容器内温度を段階的に上昇させて、前記最終目標温度に到達後、炉容器内温度が350°C以下にならないよう加熱保持しながら、炉容器内に存在する純水量が前記鉱物と同等程度以上の重量であるように追加注入することによって、酸化物からの脱酸(酸素が離脱することを言う、以下同じ)及びその脱酸による水からの水素と酸素への分解による酸素濃度上昇が継続的に起こり、炉容器内の酸素濃度の平衡状態への到達時或いはその前後、前記炉容器内を真空状態まで真空引きすることによる水素や酸素及び水蒸気の排出を繰り返すことによって、当該鉱物の酸化還元電位を下げることで、純水からの水素及び酸素への分解反応に係る反応速度を向上させることを特徴とする水素と酸素製造用触媒の製造方法。

IPC (2)：

C01B 3/02 ,  B01J 29/00

FI (2)：

C01B 3/02 B ,  B01J 29/00 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭57-038304
  
• 特開平3-205302
  
• 特開昭63-037041
  
• 特開平4-059601