Pat
J-GLOBAL ID：200903077595787546
露光方法
Inventor：
,
,
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992149278
Publication number (International publication number)：1993343285
Application date： Jun. 09, 1992
Publication date： Dec. 24, 1993
Summary：
【要約】【目的】 素子の構造(方向性)や使用する投影光学系の結像特性に応じて、重ね合わせやつなぎ合わせ、さらにつなぎ合わせ部での重ね合わせを最適に行うことができる露光方法を提供する。【構成】 露光に先立って、使用する投影光学系5による感光基板6上の投影領域内の複数の投影点(評価点)11a〜11vの位置を求めることによって投影光学系5の結像特性を求める。重ね合わせやつなぎ合わせを行う領域の評価点同士の位置のずれを求め、このずれのうち少なくとも素子の方向性に応じた方向の成分が最小となるように補正パラメータを求める。求めた補正パラメータに基づいて、レチクル4や感光基板6をシフト、回転移動する。
Claim (excerpt)：
第1の原板上のパターンの第1の像を投影光学系を介して感光基板上に露光し、第2の原板上のパターンの第2の像を前記投影光学系を介して前記第1の像に重ね合わせて露光する露光方法において、前記露光に先立って、前記投影光学系によって前記感光基板上に露光されるべき像の2次元的な位置を求め;前記2次元的な位置のうち、前記重ね合わせて露光すべき夫々の像の重ね合わせ部に対応する位置同士の偏差を求め;前記偏差が最小となるように前記原板と前記感光基板とを相対移動する、又は前記投影光学系の結像特性を変更することを特徴とする露光方法。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
H01L 21/30 311 L
, H01L 21/30 311 M
Cited by applicant (3)
-
特開昭62-024624
-
特開昭63-211623
-
特開昭64-028820
Cited by examiner (5)
Show all
Return to Previous Page
