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J-GLOBAL ID：200903077612634740

二次元図形のパターンマッチング方法及びその装置

Inventor： 辻 泰志 ,  神垣 敏雄
Applicant, Patent owner： 株式会社神戸製鋼所
Agent (1)： 本庄 武男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992124847
Publication number (International publication number)：1993324835
Application date： May. 18, 1992
Publication date： Dec. 10, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 入力画像の予期せぬ雑音や欠けなどで重心点にずれが生じても正確なパターンマッチングを行い得る二次元図形のパターンマッチング方法及びその装置。【構成】 パターンマッチング装置A ́は,二次元図形を画像入力する入力回路1と,入力画像に二値化と雑音除去処理を施す前処理回路2と,前処理を施された入力画像の形状を表す特徴点データVp を抽出する特徴点データ抽出回路3と,モデルデータVm を記憶するモデルデータ記憶回路4と,特徴点データVp をモデルデータVm に略一致するように座標変換して両データを対応づけるデータ対応回路5と,対応づけられた特徴点データVp と関連するモデルデータ群を構成するモデルデータVm とを一致させるように相似変換して両データ間の対応誤差Eを演算する演算回路6と,対応誤差Eが最小値となるモデルデータVm を抽出するモデルデータ抽出回路7とから構成されている。

Claim (excerpt)：

画像入力された二次元図形に二値化及び雑音除去処理を施した後,上記二次元図形の形状を表す特徴点データを抽出し,上記特徴点データを所定のモデルデータに略一致するように座標変換して該特徴点データと該モデルデータとを対応づける二次元図形のパターンマッチング方法において,上記対応づけられた上記特徴点データと関連するモデルデータ群を構成するモデルデータとを一致させるように相似変換して該特徴点データと該モデルデータとの対応誤差を演算し,上記対応誤差が最も小さくなる時の上記モデルデータを抽出することを特徴とする二次元図形のパターンマッチング方法。

IPC (4)：

G06F 15/70 455 ,  B25J 19/04 ,  G05B 19/18 ,  G06F 15/62 400