Pat

J-GLOBAL ID：200903077681777308

ガラス膜作製方法

Inventor： 木下 貴陽 ,  伊藤 秀明 ,  生西 省吾 ,  大野 浩一
Applicant, Patent owner： 三菱電線工業株式会社
Agent (1)： 津川 友士
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993186484
Publication number (International publication number)：1995041951
Application date： Jul. 28, 1993
Publication date： Feb. 10, 1995
Summary：

【要約】【目的】 基板上に堆積されるガラス膜を、基板に対して良好に付着させる。【構成】 反応容器1にSiCl4ガス、GeCl4ガスおよびO2を導入してプラズマで分解して基板3上にガラス膜を堆積させるに当って、基板3の温度を600°Cよりも高く設定するとともに、反応容器1の真空度を50Pa以下に設定する。

Claim (excerpt)：

減圧プラズマCVD法により基板(3)上にガラス膜を作製する方法であって、基板(3)の温度を600°Cよりも高く設定した状態で反応容器(1)内に少なくともSiCl4および酸素を含むガスを導入してプラズマ化し、反応容器(1)の内部を50Pa以下の真空度に設定して基板(3)上に透明なガラス膜を堆積させることを特徴とするガラス膜作製方法。

IPC (3)：

C23C 16/30 ,  C23C 16/50 ,  G02B 6/13

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭60-036344
  
• 特開昭60-036344