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J-GLOBAL ID：200903077696128284

レーザ刻印方法

Inventor： 清藤 哲生 ,  杉橋 敦史
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 田村 弘明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993263793
Publication number (International publication number)：1995116869
Application date： Oct. 21, 1993
Publication date： May. 09, 1995
Summary：

【要約】【目的】 金属、ガラス、プラスチック等の各種製品等に、種々のパターンを刻印する場合、パターンの大きさや形状に応じて、集光レンズを交換せずビーム集光径を調整することにより、容易かつ迅速に、視認性の高い刻印表示を得る。また、製造工程で深彫り刻印する場合、ビーム集光径を変えても、所要深さの深彫り刻印を得る。【構成】 集光レンズに入射する前のレーザビームを、2枚以上のレンズで構成されるビーム径調整光学系に透過させ、該光学系のレンズ間距離を調整することにより、刻印パターンを構成するドットまたは線密度に応じて、該ドット径または線幅を調整する。調整されたドット径または線幅に応じて、レーザビームの出力密度を調整する。

Claim (excerpt)：

集光レンズによりレーザビームを被加工物上に集光して刻印する方法において、集光レンズに入射する前のレーザビームを、2枚以上のレンズで構成されるビーム径調整光学系に透過させ、該ビーム径調整光学系のレンズ間距離を調整することにより、刻印パターンを構成するドットまたは線密度に応じて、該ドット径または線幅を調整することを特徴とするレーザ刻印方法。

IPC (7)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/04 ,  B23K 26/06 ,  B41J 2/44 ,  B41M 5/24 ,  G02B 26/10 104 ,  G02B 27/09

FI (2)：

B41J 3/00 Q ,  G02B 27/00 E