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J-GLOBAL ID：200903077702348445

皮膚洗浄料

Inventor： 増田 政彦
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001052358
Publication number (International publication number)：2002255787
Application date： Feb. 27, 2001
Publication date： Sep. 11, 2002
Summary：

【要約】【課題】化粧料除去効果及び使用性、保存安定性に優れた皮膚洗浄料を提供すること。【解決手段】環状ジメチルポリシロキサンを含有する皮膚洗浄料において、カルボキシビニルポリマーとヒドロキシエチルセルロースと非イオン性界面活性剤を配合することを特徴とする皮膚洗浄料。

Claim (excerpt)：

環状ジメチルポリシロキサンを含有する皮膚洗浄料において、カルボキシビニルポリマーとヒドロキシエチルセルロースと非イオン性界面活性剤を配合することを特徴とする皮膚洗浄料。

IPC (6)：

A61K 7/50 ,  A61K 7/02 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/37 ,  C11D 3/382 ,  C11D 10/02

FI (6)：

A61K 7/50 ,  A61K 7/02 A ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/37 ,  C11D 3/382 ,  C11D 10/02

F-Term (34)：

4C083AA112 ,  4C083AB032 ,  4C083AC102 ,  4C083AC402 ,  4C083AC432 ,  4C083AC532 ,  4C083AC582 ,  4C083AC792 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD152 ,  4C083AD171 ,  4C083AD172 ,  4C083AD281 ,  4C083AD282 ,  4C083BB04 ,  4C083CC23 ,  4C083DD41 ,  4H003AA03 ,  4H003AB23 ,  4H003AC12 ,  4H003DA02 ,  4H003EA21 ,  4H003EB02 ,  4H003EB04 ,  4H003EB16 ,  4H003EB25 ,  4H003EB30 ,  4H003EB37 ,  4H003EB42 ,  4H003ED02 ,  4H003FA16 ,  4H003FA21 ,  4H003FA23

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 皮膚洗浄料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-095306   Applicant：株式会社資生堂
• 乳化型ゴマージュ化粧料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-344238   Applicant：株式会社資生堂