Pat
J-GLOBAL ID:200903077716174679

半導体レーザー

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 松隈 秀盛
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996302066
Publication number (International publication number):1998144993
Application date: Nov. 13, 1996
Publication date: May. 29, 1998
Summary:
【要約】【課題】 ゲインガイド型構造の半導体レーザーにおいて、横モードの単峰化を図ったこの種テーパーストライプ型半導体レーザーにおいて、高出力化をはかってストライプ長を大とした場合においても、しきい値電流Ithの低減化、横モードの安定化等をはかることができるようにする。【解決手段】 活性層に対する電流注入領域がストライプ状をなし、ゲインガイド型構造を有する半導体レーザー、すなわちストライプ部とその外側との屈折率差Δnが、Δn≦5×10-4とした半導体レーザーにおいて、ストライプ部19の幅が、少なくとも一方の光出射端面S1 側で幅狭とされ、これよりストライプ長方向の中央部側に幅広部が形成され、この幅広部に少なくとも1つの幅狭ネック部19ncが形成された構成とする。
Claim (excerpt):
活性層に対する電流注入領域がストライプ状をなし、ゲインガイド型構成による半導体レーザーにおいて、上記ストライプの幅が、少なくとも出力光を取り出す端面側で幅狭とされ、これよりストライプ長方向の中央部側に幅広部が形成され、該幅広部に少なくとも1つの幅狭ネック部が形成されてなることを特徴とする半導体レーザー。

Return to Previous Page