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J-GLOBAL ID：200903077746379844

フォトソルダーレジスト組成物

Inventor： 久保田 裕之
Applicant, Patent owner： 東洋インキ製造株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995126175
Publication number (International publication number)：1996320565
Application date： May. 25, 1995
Publication date： Dec. 03, 1996
Summary：

【要約】【目的】耐薬品性、耐溶剤性、耐水性、耐湿性、耐アルカリ性等が著しく向上し優れた特性を示すフォトソルダーレジスト組成物の提供。【構成】分子内にエチレン不飽和基、カルボキシル基およびアルコール性水酸基を有する樹脂(A)とシランカップリング剤(B)とを反応させてなる活性エネルギー線硬化性樹脂(A+B)を含むフォトソルダーレジスト組成物。【効果】半田、金等の金属の電解メッキや化学メッキ、溶融半田メッキ工程等で密着性の低下によるトラブルが発生することは無い。また、耐湿試験、煮沸試験、プレッシャークッカーテスト、耐湿負荷試験等の苛酷な耐久性試験でも全く問題は起こらない。さらに、活性の強い水溶性フラックスを用いての溶融半田メッキを行なうことができる。

Claim (excerpt)：

分子内にエチレン不飽和基、カルボキシル基およびアルコール性水酸基を有する樹脂(A)とシランカップリング剤(B)とを反応させてなる活性エネルギー線硬化性樹脂(A+B)を含むことを特徴とするフォトソルダーレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/075 511 ,  G03F 7/038 501 ,  H05K 3/06

FI (3)：

G03F 7/075 511 ,  G03F 7/038 501 ,  H05K 3/06 H