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J-GLOBAL ID：200903077804409295

透明導電性膜及び製造法

Inventor： 大平 学
Applicant, Patent owner： 昭和電工株式会社
Agent (1)： 矢口 平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996007654
Publication number (International publication number)：1997198925
Application date： Jan. 19, 1996
Publication date： Jul. 31, 1997
Summary：

【要約】【課題】 プラスチック材料やガラス材料の表面に導電性、耐久性、光透過性等の諸性能に優れた導電性膜を形成する。【解決手段】 硫化銅及び珪素化合物を含有し、表面抵抗値が1×105 Ω/□以下、波長550nmの可視光に対する透過率が70%以上であり、膜厚が100Å以上の透明導電性膜及びその製造法。

Claim (excerpt)：

硫化銅及び珪素化合物を含有し、表面抵抗値が1×105 Ω/□以下、波長550nmの可視光に対する透過率が70%以上であり、膜厚が100Å以上の透明導電性膜。

IPC (6)：

H01B 5/14 ,  C01G 3/12 ,  C03C 17/25 ,  C09K 3/16 101 ,  H01B 13/00 503 ,  C08J 7/06

FI (6)：

H01B 5/14 A ,  C01G 3/12 ,  C03C 17/25 A ,  C09K 3/16 101 Z ,  H01B 13/00 503 C ,  C08J 7/06 B