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J-GLOBAL ID：200903077845427397

薄膜形成方法

Inventor： 川上 春雄
Applicant, Patent owner： 富士電機ホールディングス株式会社
Agent (5)： 奥山 尚一 ,  有原 幸一 ,  松島 鉄男 ,  佐藤 秀昭 ,  河村 英文
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004247726
Publication number (International publication number)：2006066662
Application date： Aug. 27, 2004
Publication date： Mar. 09, 2006
Summary：

【課題】 基板に結晶性有機材料薄膜を形成する方法において、結晶性有機材料薄膜を大面積で均一に形成する方法を提供する。【解決手段】 基板上に結晶性有機材料薄膜を形成する薄膜形成方法において、容器に入れた有機材料溶液に基板を浸漬する工程と、当該基板を有機材料溶液の液中から気相側へ移動する工程と、気相側にある基板上において基板に付着した有機材料溶液から当該結晶性有機材料薄膜が析出する工程と、を含み、当該基板に付着した有機材料溶液は、容器に入れた当該有機材料溶液と液相で連続していることを特徴とする薄膜形成方法。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

基板上に結晶性有機材料薄膜を形成する薄膜形成方法において、 容器に入れた有機材料溶液に基板を浸漬する工程と、当該基板を有機材料溶液の液中から気相側へ移動する工程と、気相側にある基板上において基板に付着した有機材料溶液から当該結晶性有機材料薄膜が析出する工程と、を含み、 当該基板に付着した有機材料溶液は、容器に入れた当該有機材料溶液と液相で連続していることを特徴とする薄膜形成方法。

IPC (5)：

H01L 51/05 ,  C30B 29/54 ,  H01L 21/368 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336

FI (6)：

H01L29/28 ,  C30B29/54 ,  H01L21/368 L ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 618A ,  H01L29/78 618Z

F-Term (17)：

4G077AA03 ,  4G077BF10 ,  4G077CB08 ,  4G077EA02 ,  4G077HA02 ,  5F053AA03 ,  5F053AA36 ,  5F053DD19 ,  5F053FF01 ,  5F053GG10 ,  5F110AA30 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD05 ,  5F110GG05 ,  5F110GG24 ,  5F110GG42