Pat

J-GLOBAL ID：200903077868644808

高周波加熱装置

Inventor： 吉野 浩二 ,  柏本 隆 ,  阿波根 明
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 粟野 重孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993264434
Publication number (International publication number)：1995122357
Application date： Oct. 22, 1993
Publication date： May. 12, 1995
Summary：

【要約】【目的】 高周波加熱装置において、効率的に加熱室内に電磁波を供給して、分布を均一にする。【構成】 マグネトロン3からの電磁波を導波管4により開口部6を介して加熱室2内に導き食品1を加熱するもので、開口部6は導波管4内の電界の弱い部分の位置と加熱室2内の電界の弱い部分の位置とで接続する。

Claim (excerpt)：

被加熱物を出し入れする加熱室と、電磁波を放射する電磁波放射部と、前記電磁波放射部から放射される電磁波を前記加熱室内に導く導波管と、前記電磁波放射部からの電磁波の放射を制御する制御部とを有し、前記加熱室と前記導波管とを開口部で接続し、前記開口部は、前記導波管内の電界の弱い部分の位置と前記加熱室内の電界の弱い部分の位置とで接続した高周波加熱装置。

IPC (2)：

H05B 6/70 ,  H05B 6/72

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭62-246288
  
• 特開昭61-294795
  
• 特開昭60-010584
  
• 特開昭52-024348