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J-GLOBAL ID：200903077878103457

常微分方程式の並列処理方式及びその装置

Inventor： 春日 里美
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 秋田 収喜
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992144197
Publication number (International publication number)：1993334337
Application date： Jun. 04, 1992
Publication date： Dec. 17, 1993
Summary：

【要約】【目的】 常微分方程式を精度良く、高速に解く。【構成】 異なる初期刻み幅を複数プロセッサの各々に割付け、数値積分部で近似値を求め、局所的誤差計算部で局所的誤差を、許容誤差計算部で許容誤差を求め、この二つの誤差の関係から、刻み幅調節部で各プロセッサの刻み幅を調節すると共に、評価装置では複数プロセッサで処理された刻み幅の最大値を選択して各プロセッサに再設定する。

Claim (excerpt)：

複数のプロセッサのそれぞれに、常微分方程式の近似解を求めたい複数の離散点および近似解の絶対、相対誤差値、ならびに各離散点間の刻み幅を示すプロセッサ毎に異なる初期刻み幅を与え、各プロセッサにおいて前記複数の離散点のうち先頭の離散点から順に初期刻み幅だけ離れた計算点の積分値と局所打切り誤差を求め、さらに前記積分値と前記絶対、相対誤差値とに基づいて許容誤差を求め、この許容誤差と前記局所打切り誤差との関係から初期刻み幅の適否を判定し、その判定結果に応じて初期刻み幅を調節して次の計算点までの新たな刻み幅を求める処理を各プロセッサで並列に繰返し行うと共に、前記局所打切り誤差が許容誤差以内となっている時は、許容誤差以内となっている全てのプロセッサが現時点で使用した刻み幅のうち最大値を選択し、この最大の刻み幅の値を前記新たな刻み幅に代えて複数の全てのプロセッサに対し、次の計算点までの刻み幅の値として与える処理を、次の離散点に達するまで繰返すことにより、近似解を求めたい複数の離散点間の刻み幅の最適値を選択しながら常微分方程式の各離散点における近似解を求めることを特徴とする常微分方程式の並列処理方式。