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J-GLOBAL ID：200903077909599898

アシルオキシベンゼンスルホン酸塩の製造方法

Inventor： 畑山 善生 ,  檀上 洋 ,  井上 勝久 ,  外谷 孝四郎
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 古谷 馨 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994189288
Publication number (International publication number)：1996053405
Application date： Aug. 11, 1994
Publication date： Feb. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】 高選択性でしかも高収率で、かつ廉価にアシルオキシベンゼンスルホン酸塩を製造できる工業的製造法の提供。【構成】 実質的に無水のフェノールスルホン酸塩(1) にカルボン酸ハライド(2) を反応させ、アシルオキシベンゼンスルホン酸塩(3) を製造するに際し、カルボン酸(4) の存在下で反応を行う。【化1】【化2】【化3】【化4】(式中、R1はC1-4の低級アルキル基、R2及びR3はC1-21 のアルキル基、アルケニル基等、nは0〜2、M はアルカリ金属、アルカリ土類金属等、X はハロゲン原子を示す。)

Claim (excerpt)：

実質的に無水の一般式(1)【化1】(式中、R1:炭素数1〜4の直鎖又は分岐の低級アルキル基を示す。n:0〜2の数を示し、n=2の場合、2つのR1は同じであっても異なっていてもよい。M:アルカリ金属、アルカリ土類金属あるいはアンモニウムを示す。)で表されるフェノールスルホン酸塩に、一般式(2)【化2】(式中、R2:炭素数1〜21の、ハロゲン又はフェニル基で置換されていてもよく、エステル基、アミド基、エーテル基あるいはフェニレン基が挿入されていてもよい直鎖又は分岐のアルキル基又はアルケニル基を示すか、あるいは無置換もしくはハロゲン又はアルキル基で置換されていてもよいフェニル基を示す。X:F、Cl、Br又はIから選ばれるハロゲン原子を示す。)で表されるカルボン酸ハライドを反応させ、一般式(3)【化3】(式中、R1,R2,n 及び Mは前記の意味を示す。)で表されるアシルオキシベンゼンスルホン酸塩を製造するに際し、一般式(4)【化4】(式中、R3:炭素数1〜21の、ハロゲン又はフェニル基で置換されていてもよく、エステル基、アミド基、エーテル基あるいはフェニレン基が挿入されていてもよい直鎖又は分岐のアルキル基又はアルケニル基を示すか、あるいは無置換もしくはハロゲン又はアルキル基で置換されていてもよいフェニル基を示す。)で表されるカルボン酸の存在下で反応を行うことを特徴とするアシルオキシベンゼンスルホン酸塩の製造方法。

IPC (2)：

C07C309/42 ,  C07C303/32