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J-GLOBAL ID：200903077931512518

衝撃波発生方法および装置、粒子加速方法、粒子加速器、薬剤導入装置ならびに遺伝子導入方法および装置

Inventor： 高山 和喜 ,  高橋 明 ,  川岸 潤 ,  ゴパラン ジャガデシュ ,  吉本 高志
Applicant, Patent owner： リードメディック株式会社
Agent (1)： 須田 篤
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001076376
Publication number (International publication number)：2002272460
Application date： Mar. 16, 2001
Publication date： Sep. 24, 2002
Summary：

【要約】【課題】装置の小型化と操作性・信頼性の向上を図る。【解決手段】衝撃波発生装置が金属箔5とその一方の面5aにその金属の蒸散・プラズマ化を行う吸収性の短パルスエネルギーを印加するエネルギー源とを有する。遺伝子導入装置が、短パルスエネルギーを印加する一方の面5aと反対側の面5bに、遺伝子8を付着させた微粒子9の配置部を有する。

Claim (excerpt)：

金属箔の一方の面にその金属の蒸散・プラズマ化を行う吸収性の短パルスエネルギーを印加することにより、金属ガスの急激な膨張によるジェットを発生させ、前記金属箔の他方の面で衝撃波を発生させることを特徴とする衝撃波発生方法。

IPC (7)：

C12N 15/09 ,  A61K 9/14 ,  A61K 48/00 ,  A61M 37/00 ,  A61P 9/00 ,  A61P 35/00 ,  C12M 1/00

FI (7)：

A61K 9/14 ,  A61K 48/00 ,  A61M 37/00 ,  A61P 9/00 ,  A61P 35/00 ,  C12M 1/00 A ,  C12N 15/00 A

F-Term (25)：

4B024AA19 ,  4B024AA20 ,  4B024CA01 ,  4B024DA03 ,  4B024GA11 ,  4B024HA17 ,  4B029AA23 ,  4B029BB20 ,  4C076AA31 ,  4C076BB31 ,  4C076FF68 ,  4C084AA13 ,  4C084NA14 ,  4C084ZA362 ,  4C084ZB262 ,  4C167AA80 ,  4C167BB37 ,  4C167BB42 ,  4C167BB47 ,  4C167CC09 ,  4C167CC12 ,  4C167CC29 ,  4C167DD07 ,  4C167GG21 ,  4C167GG26