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J-GLOBAL ID：200903077950073266
X線マスク
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高田 守
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992086758
Publication number (International publication number)：1993291120
Application date： Apr. 08, 1992
Publication date： Nov. 05, 1993
Summary：
【要約】【目的】 X線マスクの吸収体(W,W-Ti)に高精度なパターン転写を可能にする。【構成】 X線吸収体3としてタングステンまたはタングステンとチタンの合金を用い、このX線吸収体の下層または上層に窒化チタンの薄膜9を備えたので、窒化チタンとタングステンとの大きなエッチング選択性を利用して、安定に微細加工が行える。
Claim (excerpt)：
X線吸収体としてタングステンまたはタングステンとチタンの合金を用いたX線マスクにおいて、上記X線吸収体の下層または上層に窒化チタンの薄膜を備えたことを特徴とするX線マスク。
IPC (2)：
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