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J-GLOBAL ID：200903077964193183

薄膜の製造装置

Inventor： 赤松 孝義 ,  野中 敏央 ,  野中 晴支
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993267030
Publication number (International publication number)：1995122494
Application date： Oct. 26, 1993
Publication date： May. 12, 1995
Summary：

【要約】【構成】可撓性の長尺基体を走行させる機構と可撓性の長尺基体を表面に沿わせて走行させる円筒状のドラム上でCVD法により薄膜を形成する機構とを備え、該ドラム表面が励振される薄膜の製造装置。【効果】可撓性の長尺基体に対して有効に超音波振動を与えつつその上に薄膜を形成し、より低い基体温度で良特性の薄膜を得られる製造装置を提供する。

Claim (excerpt)：

可撓性の長尺基体を走行させる機構と可撓性の長尺基体を表面に沿わせて走行させる円筒状のドラム上で薄膜を形成する機構とを備えた薄膜の製造装置であって、該ドラム表面が該ドラム内部に設置された超音波振動子によって励振されることを特徴とする薄膜の製造装置。

IPC (2)：

H01L 21/205 ,  H01L 31/04