Pat

J-GLOBAL ID：200903077975441090

光学薄膜の製造装置および製造方法

Inventor： 池田 浩 ,  三田村 宣明 ,  川俣 健 ,  浦田 憲和 ,  豊原 延好 ,  渡邊 正 ,  生水 利明
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996191269
Publication number (International publication number)：1998036962
Application date： Jul. 22, 1996
Publication date： Feb. 10, 1998
Summary：

【要約】【課題】 スパッタリングによって光学薄膜を形成させる際の成膜速度を向上させると共に、膜や基板へのダメージを防止する。【解決手段】 ターゲットである膜原料3aを載置したカソード5に高周波電源7から交流を印加して、この交流の電力によりターゲット3A上にプラズマを発生させ、このプラズマによりターゲット3aの温度を上昇させながらターゲット3aをスパッタリングすることにより、高速で基板2a上に光学薄膜を形成すると共に、ターゲットの中心から見たターゲットの面積の5分の2の面積の垂直方向にこの面積を投影した投影部の外に基板2aを配置することにより、荷電粒子である熱電子の入射による膜や基板のダメージを防止し、光吸収の少ない光学薄膜を得る。

Claim (excerpt)：

交流を印加することで負電位とされるカソードと、膜原料として粒径10mm以下の顆粒状のMgF2 の多数個を用い、前記カソード上に載置されたときのターゲット表面がほぼ円形である前記膜原料により構成されるターゲットと、前記ターゲットに対向する位置で、且つ前記ターゲットの直径の5分の2の直径をもち、中心軸が前記ターゲットと一致するような円形の平面の、垂直方向にこの平面を投影した投影部の外に配置される基板と、前記ターゲット上にプラズマを発生せしめ、前記プラズマにより前記膜原料表面の温度を上昇させながら、前記ターゲットを正イオンによりスパッタリングすることにより前記膜原料の少なくとも一部を分子状態で跳びださせ、この分子状態の膜原料を前記基板に到達せしめて前記基板上に光学薄膜を形成するため前記交流を供給する交流電源手段と、を有することを特徴とする光学薄膜の製造装置。

IPC (4)：

C23C 14/34 ,  C03C 17/245 ,  C23C 14/06 ,  G02B 1/11

FI (4)：

C23C 14/34 S ,  C03C 17/245 A ,  C23C 14/06 G ,  G02B 1/10 A