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J-GLOBAL ID:200903077979176951
高温水蒸気発生装置、高温水蒸気を用いた処理装置及び有機系塩素含有物の脱塩素方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
梶 良之
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998362042
Publication number (International publication number):2000065312
Application date: Dec. 21, 1998
Publication date: Mar. 03, 2000
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、電磁誘導で発熱される発熱体によって水蒸気を500°C以上の超高温域まで昇温できる高温水蒸気発生装置を提供することにある。【解決手段】 本発明の高温上記発生装置は、水を水蒸気にする水蒸気発生手段2と、非磁性体パイプ7の通路12中に電磁誘導で発熱する発熱体8〜11を複数段配置した電磁誘導加熱手段3と備える。そして、各発熱体8〜11のうち後段側の発熱体9〜11をカーボン含有のものとした。
Claim (excerpt):
水を水蒸気にする水蒸気発生手段と、前記水蒸気が通るように非磁性体で形成された通路中に電磁誘導で発熱する発熱体を複数段設置し、前記水蒸気を加熱する電磁誘導加熱手段とを備え、前記電磁誘導加熱手段は、前記複数段の発熱体のうち少なくとも最後段をカーボンを含む発熱体とした高温水蒸気発生装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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蒸気加熱装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-273643
Applicant:松下電器産業株式会社
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特開平2-192687
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触媒反応装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-349381
Applicant:株式会社瀬田技研, オムロン株式会社
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廃棄物の熱処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-277501
Applicant:三菱重工業株式会社
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セメント原料用廃棄物の処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-330455
Applicant:三菱マテリアル株式会社
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