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J-GLOBAL ID：200903077995227043

基板の裏面洗浄装置

Inventor： 宮本 英典 ,  上田 康爾 ,  岡野 進
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 小山 有 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996112235
Publication number (International publication number)：1997298181
Application date： May. 07, 1996
Publication date： Nov. 18, 1997
Summary：

【要約】【課題】 チャックによって基板裏面を支持する場合には、基板裏面の全面を洗浄することができない。【解決手段】 洗浄テーブル2に対しスピンナーチャック6を上昇させた位置で、基板Wの裏面中央を吸着保持し、次いでスピンナーチャック6を若干下降せしめ、基板Wがケース1の上端よりも下がった位置で一旦スピンナーチャック6の下降を停止し、この位置でスピンナーチャック6によって基板Wを回転させつつエッジ洗浄ノズル15から基板のエッジ部に向けて洗浄液を吐出し、基板W上面の周縁部に形成された余分な塗膜を除去する。次いで、スピンナーチャック6を更に下降させ、洗浄テーブル2上に基板Wを移載する。この状態でスピンナーチャック6上面と基板W裏面との間には隙間が形成される。そして、この状態で、前記洗浄ノズル10から洗浄液を基板Wの裏面に吐出し、基板Wの裏面全面を洗浄する。

Claim (excerpt)：

基板の下面を支持する突起を備え且つ中央に開口を形成した洗浄テーブルと、前記開口に対し出没可能とされ上昇位置で洗浄テーブルよりも高い位置で基板裏面を支持し、下降位置で洗浄テーブル上に基板を移載した後、基板裏面との間に隙間を形成するチャックと、このチャックの中心穴内に配置され、その上端部には洗浄液噴出口が形成された洗浄ノズルとを備えたことを特徴とする基板の裏面洗浄装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 341 ,  B08B 3/02 ,  H01L 21/68

FI (3)：

H01L 21/304 341 N ,  B08B 3/02 B ,  H01L 21/68 P