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J-GLOBAL ID:200903077997900039

表面モニター方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 後藤 洋介 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995083482
Publication number (International publication number):1996254415
Application date: Mar. 16, 1995
Publication date: Oct. 01, 1996
Summary:
【要約】【目的】 観測が容易で、信頼性が高く、試料のデバイスとしての特性に悪影響を与えない薄膜の表面モニター方法を提供する。【構成】 波長240〜500nmの光を試料に照射する光源13と、試料からの反射光を分光する分光器15と、分光器の出力から反射率を求めるデータ処理部16とを有している。
Claim (excerpt):
半導体薄膜の表面に光を照射し、その反射光の光強度を測定して前記表面の凹凸を観測する表面モニター方法において、前記光として波長240〜500nmの光を用いることを特徴とする表面モニター方法。
IPC (5):
G01B 11/28 ,  G01B 11/30 ,  H01L 21/66 ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/8242
FI (4):
G01B 11/28 Z ,  G01B 11/30 E ,  H01L 21/66 J ,  H01L 27/10 621 B

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