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J-GLOBAL ID：200903078006855304

基板の洗浄装置と洗浄方法

Inventor： 力弓 光春
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994281736
Publication number (International publication number)：1996131977
Application date： Nov. 16, 1994
Publication date： May. 28, 1996
Summary：

【要約】【目的】 基板の洗浄装置と洗浄方法に関し、洗浄後の基板にパーティクルが残存することを防ぐことを目的とする。【構成】 洗浄液3を洗浄槽1の下方から噴出させながら上部から溢流させる工程と、下部から排出させる工程とを少なくとも1回繰り返して、基板支持具6に並行に支持された複数枚の基板5を洗浄する基板の洗浄装置において、洗浄液3の排液弁4が、該洗浄槽1の、該基板5面と平行な方向と交差する少なくとも一方の側壁1bの下部が開口するように設けられているように基板の洗浄装置を構成し、洗浄液3の噴出・溢流→排出を少なくとも1回繰り返して行うように基板の洗浄方法を構成する。

Claim (excerpt)：

洗浄液を洗浄槽内の下方から噴出させながら上部から溢流させて、洗浄液の噴出方向と平行に支持された基板を洗浄する基板の洗浄装置において、前記洗浄液を排出する排液弁が、前記洗浄槽の、前記基板面に平行な方向と交差する少なくとも一方の側壁の下部が開口するように設けられていることを特徴とする基板の洗浄装置。

IPC (3)：

B08B 3/10 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304