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J-GLOBAL ID：200903078007073709

エキシマレーザー光による孔加工法

Inventor： 西川 正治
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991020175
Publication number (International publication number)：1993015987
Application date： Feb. 13, 1991
Publication date： Jan. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】 プラスチックシートの絶縁性を低下させることなく貫通孔を形成する。【構成】 複数の開口16を有する金属箔14が表面に形成されたプラスチックシート12に対して、金属箔14をマスクとしてエキシマレーザー光のビーム20を照射する。ビーム20はプラスチックシート12に対して相対的に移動される。貫通孔24は1回のビーム照射では形成されず、繰り返し何回も照射された後に形成される。

Claim (excerpt)：

開口を有する金属箔を表面に備えるプラスチックシートに対し、相対的に移動させながらエキシマレーザー光のビームを金属箔の開口を介して繰り返し照射してプラスチックシートに貫通孔を形成することを特徴とする、エキシマレーザー光による孔加工法。

IPC (6)：

B23K 26/00 330 ,  B23K 26/06 ,  B32B 27/06 ,  B41J 2/415 ,  C08J 7/00 302 ,  H05K 3/00