電子光学系

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：渡部温
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997196408
Publication number (International publication number)：1999031470
Application date： Jul. 08, 1997
Publication date： Feb. 02, 1999
Summary：

【要約】【課題】短時間の計算で光学系の条件を最適化した電子光学系を提供する。【解決手段】電子線投影光学系の二段のレンズ2、3に、軸外での収差を低減する複数の偏向器6、7、8、9、10、11を設ける。そして、電子線偏向により副視野選択を行う主視野寸法を10mm以下とし、副視野の被転写試料4面上における寸法を500〜750μm 角、マスク1-試料4間距離を600mm以下とする。

Claim (excerpt)：

転写領域を複数の視野に分割し、各視野で電子光学系の条件を変化させて転写を行う装置の電子光学系において;光軸上の一つの視野における幾何光学収差、色収差及び空間電荷効果の関係に基づいてマスク-試料間距離あるいは視野寸法を最適化するとともに、光学系内のレンズに、軸外での収差を低減あるいは消去する複数の偏向器を付設したことを特徴とする電子光学系。

IPC (4)：

H01J 37/147 , G03F 7/20 504 , H01J 37/305 , H01L 21/027

FI (4)：

H01J 37/147 C , G03F 7/20 504 , H01J 37/305 B , H01L 21/30 541 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

荷電粒子線転写装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-285117 Applicant：株式会社ニコン
低輝度を有する電子ビーム・リソグラフィ・システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-239415 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
電子ビーム照射装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-326976 Applicant：日本電信電話株式会社

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