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J-GLOBAL ID:200903078018773907

オーミック電極の形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大垣 孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997158640
Publication number (International publication number):1999008419
Application date: Jun. 16, 1997
Publication date: Jan. 12, 1999
Summary:
【要約】【課題】 大気中でのオーミック電極の酸化を防止する。【解決手段】 下地10上にオーミック電極14を形成する工程と、真空を10-5Torr以下に保持した状態でオーミック電極の上面に貴金属膜16を形成する工程とを含むこと。
Claim (excerpt):
下地上にオーミック電極を形成する工程と、真空を10-5Torr以下に保持した状態で前記オーミック電極の上面に貴金属膜を形成する工程とを含むことを特徴とするオーミック電極の形成方法。
IPC (2):
H01L 39/22 ZAA ,  H01L 21/28 301
FI (2):
H01L 39/22 ZAA G ,  H01L 21/28 301 Z

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