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J-GLOBAL ID：200903078026875069

マスクの白欠陥修正方法

Inventor： 高岡 修 ,  矢部 悟
Applicant, Patent owner： セイコーインスツルメンツ株式会社
Agent (1)： 坂上 正明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001035797
Publication number (International publication number)：2002244276
Application date： Feb. 13, 2001
Publication date： Aug. 30, 2002
Summary：

【要約】【課題】 イオンビームを用いた欠陥修正装置では修正し難いタイプの白欠陥の修正を可能にする。【解決手段】 イオンビームを用いた欠陥修正装置では修正し難い白欠陥に対してAFM等で観察する。カーボンナノチューブでできたプローブ顕微鏡の探針1を修正しようとする欠陥2の直上に持って行き、探針にパルス電圧をかけて探針直下にカーボン含有膜4を生成する。原料であるカーボンナノチューブの消費に対しては、複数のカーボンナノチューブ探針を用意し、切り替えて使用する。比較的大きな欠陥に対しては一次元や二次元状に配置されたカーボンナノチューブ探針のパルス電圧を形状に合わせて選択的にパルス電圧をON/OFFすることで、スループットを向上させる。

Claim (excerpt)：

カーボンナノチューブでできた走査プローブ顕微鏡の探針にパルス電界をかけて発生したカーボン膜によりマスクの白欠陥を修正することを特徴とするマスクの白欠陥修正方法。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01J 37/30

FI (2)：

G03F 1/08 W ,  H01J 37/30 Z

F-Term (7)：

2H095BD33 ,  2H095BD35 ,  5C034AA02 ,  5C034AA03 ,  5C034AA09 ,  5C034AB04 ,  5C034AB07