フォトマスク設計方法及び設計装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：三好秀和 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993159318
Publication number (International publication number)：1995013326
Application date： Jun. 29, 1993
Publication date： Jan. 17, 1995
Summary：

【要約】【構成】マスクレイアウトデータ中の透明領域に相当する図形間の最短距離があるしきい値未満であるかによって隣接関係を求め、その隣接関係を各々の辺に重みを付けたグラフで表現した時に奇数のノードから構成される閉ループとなる個所に対して、重みの大きい辺から、各々の閉ループの一辺以上の辺の両端のノードに相当する図形同士を通過する光を同位相とし、その同位相が許される部分以外は互いに隣接関係にある図形同士を通過する光に位相差を与えることによって各々の透明領域に対して通過する光の位相を決定する。【効果】プロセス条件、図形の幾何学的配置を重みの値に反映させたシフター配置ができ、高信頼性マスクを設計でき、位相シフトマスク設計作業を効率化できる。

Claim (excerpt)：

部分的にコヒーレントな入射光を用いるフォトリソグラフィで使用され、複数の透明領域及び不透明領域が形成されているフォトマスクの透明領域上に、透明領域を通過する前記入射光に位相差を与える位相シフターを設けたフォトマスクを設計する際に、マスクレイアウトデータ中の透明領域に相当する図形間の最短距離があるしきい値未満であるかによって隣接関係を求め、その隣接関係を各々の辺に重みを付けたグラフで表現した時に奇数のノードから構成される閉ループとなる個所に対して、重みの大きい辺から、各々の閉ループの一辺以上の辺の両端のノードに相当する図形同士を通過する光を同位相とし、その同位相が許される部分以外は互いに隣接関係にある図形同士を通過する光に位相差を与えることによって各々の透明領域に対して通過する光の位相を決定することを特徴とするフォトマスク設計方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

図形演算処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-051005 Applicant：松下電器産業株式会社
特開平4-221954
特開平4-147142

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