Pat

J-GLOBAL ID：200903078087134568

ウエット処理方法及び処理装置

Inventor： 三森 健一 ,  大見 忠弘 ,  山中 弘次 ,  今岡 孝之 ,  二つ木 高志 ,  山下 幸福 ,  吉澤 道雄
Applicant, Patent owner： 株式会社フロンテック ,  オルガノ株式会社 ,  大見 忠弘
Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995169956
Publication number (International publication number)：1997019668
Application date： Jul. 05, 1995
Publication date： Jan. 21, 1997
Summary：

【要約】【課題】 被処理物を洗浄する際に、必要最小限の薬品使用量でかつ必要最小限の工程で、しかも従来より高い洗浄度でウエット処理することが可能なウエット処理方法及び処理装置を提供すること。【手段】 被処理物を、所定の電気分解装置に純水または超純水を導入し電解して得たアノード水またはカソード水を用いてウエット処理する方法であって、ウエット処理を、該アノード水またはカソード水に30KHz以上の超音波を照射しながら行うことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

被処理物を、所定の電気分解装置に純水または超純水を導入し電解して得たアノード水またはカソード水を用いてウエット処理する方法であって、ウエット処理を、該アノード水またはカソード水に30KHz以上の超音波を照射しながら行うことを特徴とするウエット処理方法。

IPC (3)：

B08B 3/12 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/308

FI (3)：

B08B 3/12 Z ,  H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/308 G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-244971   Applicant：株式会社東芝
• 噴射形超音波洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-098550   Applicant：株式会社国際電気エルテック, 株式会社渡邊商行
• 特開平4-256473