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J-GLOBAL ID：200903078108815331

半導体製造設備用直線運動案内装置

Inventor： 近藤 博光 ,  山田 博 ,  中野 賀泰 ,  金本 宗広
Applicant, Patent owner： エヌテイエヌ株式会社
Agent (1)： 江原 省吾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991192237
Publication number (International publication number)：1993126150
Application date： Jul. 31, 1991
Publication date： May. 21, 1993
Summary：

【要約】【目的】 リニアボールベアリングやガイドローラ等の直線運動案内装置を、真空中、大気中の両方で耐久性に優れ、かつ、低発塵性のものとし、特に、半導体製造設備での使用に適したものとする。【構成】 リニアボールベアリングAまたはガイドローラBなどの直線運動部品の転がり摩擦または滑り摩擦を生ずる部位に、平均分子量が5000以下のポリテトラフルオロエチレン(PTFEテロマー)からなる固体潤滑被膜5を形成する。

Claim (excerpt)：

軸受本体と、該軸受本体に内装された長尺の軌道部材と、該軸受本体と軌道部材との間に介在させた転動体とからなる半導体製造設備用直線運動案内装置であって、上記直線運動案内装置の転がり摩擦または滑り摩擦を生じる表面のうち少なくとも転動体の表面に、平均分子量が5000以下のポリテトラフルオロエチレンからなる固体潤滑被膜を形成したことを特徴とする半導体製造設備用直線運動案内装置。

IPC (2)：

F16C 29/06 ,  F16C 33/32

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭49-108452
  
• 特開昭63-000868
  
• 特開平3-119095