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J-GLOBAL ID:200903078130705043
基板からフッ素化ポリマーを除去する装置及び方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人広江アソシエイツ特許事務所
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2008533419
Publication number (International publication number):2009510775
Application date: Sep. 15, 2006
Publication date: Mar. 12, 2009
Summary:
基板からフッ素化ポリマーを除去するためのプラズマ発生装置。この実施例は通電電極、第1誘電層及びそれら通電電極と第1誘電層との間に提供された第1ワイヤメッシュを含む通電電極構造体を含んでいる。この実施例はまた、通電電極構造体の反対側に設置された接地電極構造体を含んでおり、プラズマを発生させる空洞部を形成している。プラズマが空洞部内に存在するとき第1ワイヤメッシュは第1誘電層から遮蔽される。空洞部はフッ素化ポリマーを除去するプラズマを提供するためにその1端に出口を有している。【選択図】図3
Claim (excerpt):
基板からフッ素化ポリマーを除去するためのプラズマ発生装置であって、
通電電極と、
第1誘電層と、
前記通電電極と前記第1誘電層との間に設置された第1ワイヤメッシュと、
接地電極と、
を含んでおり、
プラズマは前記通電電極と前記接地電極との間で発生され、プラズマが存在するとき前記第1ワイヤメッシュは前記第1誘電層によってプラズマから遮蔽され、
本装置は、フッ素化ポリマーを除去するプラズマを提供するためのオリフィスをさらに含んでいることを特徴とする装置。
IPC (2):
H01L 21/306
, H01L 21/304
FI (2):
H01L21/302 101E
, H01L21/304 645C
F-Term (26):
5F004AA14
, 5F004BA06
, 5F004BA20
, 5F004BB13
, 5F004BB18
, 5F004DA01
, 5F004DA22
, 5F004DA24
, 5F004DA26
, 5F004DB23
, 5F157AA63
, 5F157AA93
, 5F157AB02
, 5F157AB89
, 5F157AB94
, 5F157AB98
, 5F157AC01
, 5F157BG33
, 5F157BG35
, 5F157BG36
, 5F157BG39
, 5F157BG72
, 5F157BG86
, 5F157CF48
, 5F157CF72
, 5F157DA21
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
Cited by examiner (3)
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